8-инчова силициева пластина P/N-тип (100) 1-100Ω фиктивен регенериран субстрат

Кратко описание:

Голяма наличност на двустранно полирани пластини, всички пластини с диаметър от 50 до 400 мм. Ако вашата спецификация не е налична в нашия склад, ние сме изградили дългосрочни отношения с много доставчици, които са в състояние да изработят пластини по поръчка, за да отговарят на всяка уникална спецификация. Двустранно полираните пластини могат да се използват за силиций, стъкло и други материали, често използвани в полупроводниковата индустрия.


Детайли за продукта

Етикети на продукти

Въвеждане на кутия за вафли

8-инчовата силициева пластина е често използван силициев субстратен материал и се използва широко в производствения процес на интегрални схеми. Такива силициеви пластини обикновено се използват за направата на различни видове интегрални схеми, включително микропроцесори, чипове памет, сензори и други електронни устройства. 8-инчовите силициеви пластини обикновено се използват за направата на чипове с относително големи размери, като предимствата им включват по-голяма повърхност и възможност за производство на повече чипове върху една силициева пластина, което води до повишена ефективност на производството. 8-инчовата силициева пластина има и добри механични и химични свойства, което е подходящо за мащабно производство на интегрални схеми.

Характеристики на продукта

8" P/N тип, полирана силициева пластина (25 бр.)

Ориентация: 200

Съпротивление: 0,1 - 40 ohm•cm (Може да варира от партида до партида)

Дебелина: 725+/-20um

Основен/Мониторинг/Тестов клас

МАТЕРИАЛНИ СВОЙСТВА

Параметър Характеристика
Вид/Допант P, бор N, фосфор N, антимон N, арсен
Ориентации <100>, <111> ориентации на отрязване според спецификациите на клиента
Съдържание на кислород 1019ppmA Персонализирани толеранси по спецификация на клиента
Съдържание на въглерод < 0,6 ppmA

МЕХАНИЧНИ СВОЙСТВА

Параметър Главен Монитор/Тест А Тест
Диаметър 200±0,2 мм 200 ± 0,2 мм 200 ± 0,5 мм
Дебелина 725±20µm (стандартно) 725±25µm (стандартно) 450±25µm

625±25µm

1000±25µm

1300±25µm

1500±25 µm

725±50µm (стандартно)
ТТВ < 5 µm < 10 µm < 15 µm
Лък < 30 µm < 30 µm < 50 µm
Увиване < 30 µm < 30 µm < 50 µm
Закръгляване на ръбове ПОЛУСТАНДАРТЕН
Маркиране Само първични ПОЛУ-ПЛОСКИ, ПОЛУ-СТАНДАРТНИ плоски Jeida плоски, Notch
Параметър Главен Монитор/Тест А Тест
Критерии за предната страна
Състояние на повърхността Химично механично полиране Химично механично полиране Химично механично полиране
Грапавост на повърхността < 2 Å < 2 Å < 2 Å
Замърсяване

Частици @ >0,3 µm

= 20 = 20 = 30
Мъгла, Ями

Портокалова кора

Няма Няма Няма
Видях, маркирах

Набраздявания

Няма Няма Няма
Критерии за обратна страна
Пукнатини, пачи крак, следи от трион, петна Няма Няма Няма
Състояние на повърхността Каустично гравиран

Подробна диаграма

IMG_1463 (1)
IMG_1463 (2)
IMG_1463 (3)

  • Предишно:
  • Следващо:

  • Напишете съобщението си тук и ни го изпратете