4-инчова силиконова пластина FZ CZ N-тип DSP или SSP Тестова степен

Кратко описание:

Силициевата пластина е тънък лист, изрязан от монокристален силиций.Силиконовите пластини се предлагат в 2-инчови, 3-инчови, 4-инчови, 6-инчови и 8-инчови диаметри и се използват главно за производство на интегрални схеми.Силициевите пластини са само суровината, а чиповете са крайният продукт.Силициевите пластини са важни материали за направата на интегрални схеми и различни полупроводникови устройства могат да бъдат направени чрез фотолитография и йонна имплантация върху силициеви пластини.

Изпратете имейл до нас

Подробности за продукта

Продуктови етикети

Представяне на кутия за вафли

Силициевите пластини са неразделна част от днешния разрастващ се технологичен сектор.Пазарът на полупроводникови материали изисква силициеви пластини с точни спецификации за производството на голям брой нови устройства с интегрални схеми.Ние осъзнаваме, че с нарастването на разходите за производство на полупроводници се увеличава и цената на тези производствени материали, като например силициеви пластини.Ние разбираме значението на качеството и ефективността на разходите в продуктите, които предоставяме на нашите клиенти.Ние предлагаме вафли, които са рентабилни и с постоянно качество.Ние произвеждаме основно силициеви пластини и блокове (CZ), епитаксиални пластини и SOI пластини.

Диаметър	Диаметър	Полиран	Допингиран	Ориентация	Съпротивление/Ω.cm	Дебелина/um
2 инча	50,8±0,5 мм	SSP DSP	P/N	100	1-20	200-500
3 инча	76,2±0,5 мм	SSP DSP	P/B	100	NA	525±20
4	101,6±0,2 101,6±0,3 101,6±0,4	SSP DSP	P/N	100	0,001-10	200-2000
6	152,5±0,3	SSP DSP	P/N	100	1-10	500-650
8	200±0,3	DSP SSP	P/N	100	0,1-20	625

Приложението на силициеви пластини

Субстрат: PECVD/LPCVD покритие, магнетронно разпрашване

Субстрат: XRD, SEM, атомна силова инфрачервена спектроскопия, трансмисионна електронна микроскопия, флуоресцентна спектроскопия и други аналитични тестове, епитаксиален растеж на молекулен лъч, рентгенов анализ на обработка на кристална микроструктура: ецване, свързване, MEMS устройства, захранващи устройства, MOS устройства и други обработка

От 2010 г. Shanghai XKH Material Tech.Co., Ltd се е ангажирала да предоставя на клиентите цялостни решения за 4-инчови вафли Silicon Wafer, от вафли с ниво на отстраняване на грешки Dummy Wafer, вафли с тестово ниво Test Wafer, до вафли на продуктово ниво Prime Wafer, както и специални вафли, оксидни вафли Oxide, Нитридни пластини Si3N4, пластини с алуминиево покритие, силиконови пластини с медно покритие, SOI пластини, MEMS стъкло, персонализирани ултра-дебели и ултра-плоски пластини и т.н., с размери, вариращи от 50mm-300mm, и ние можем да предоставим полупроводникови пластини с едностранни /двустранно полиране, изтъняване, нарязване, MEMS и други услуги за обработка и персонализиране.