P-тип SiC субстрат SiC пластина Dia2inch нов продукт

Кратко описание:

2-инчова P-тип силициева карбидна (SiC) пластина в 4H или 6H политип. Тя има подобни свойства като N-тип силициево-карбидната (SiC) пластина, като например устойчивост на висока температура, висока топлопроводимост, висока електрическа проводимост и др. P-тип SiC субстратът обикновено се използва за производство на силови устройства, особено за производство на биполярни транзистори с изолирана врата (IGBT). Дизайнът на IGBT често включва PN преходи, където P-тип SiC може да бъде предимство за контролиране на поведението на устройствата.


Детайли за продукта

Етикети на продукти

Силициево-карбидните подложки тип P обикновено се използват за направата на силови устройства, като например биполярни транзистори с изолиран затвор (IGBT).

IGBT = MOSFET + BJT, което е превключвател за включване/изключване. MOSFET = IGFET (метално-оксидно-полупроводникова полева тръба или полеви транзистор с изолирана врата). BJT (биполярен преходен транзистор, известен още като транзистор), биполярен означава, че в процеса на проводимост участват два вида носители на електрони и дупки, като обикновено в проводимостта участва PN преход.

2-инчовата p-тип силициево-карбидна (SiC) пластина е в 4H или 6H политип. Тя има подобни свойства на n-тип силициево-карбидните (SiC) пластини, като например устойчивост на висока температура, висока топлопроводимост и висока електрическа проводимост. p-тип SiC подложките се използват често при производството на силови устройства, особено за производството на биполярни транзистори с изолирана врата (IGBT). Дизайнът на IGBT обикновено включва PN преходи, където p-тип SiC е предимство за контролиране на поведението на устройството.

p4

Подробна диаграма

IMG_1595
IMG_1594

  • Предишно:
  • Следващо:

  • Напишете съобщението си тук и ни го изпратете