Понастоящем нашата компания може да продължи да доставя малка партида 8-инчови SiC вафли тип N, ако имате нужда от проби, моля не се колебайте да се свържете с мен.Имаме готови за изпращане примерни вафли.
В областта на полупроводниковите материали компанията направи голям пробив в изследването и разработването на кристали SiC с големи размери.Използвайки свои собствени зародишни кристали след множество кръгове на разширяване на диаметъра, компанията успешно е отгледала 8-инчови N-тип SiC кристали, които решават трудни проблеми като неравномерно температурно поле, напукване на кристали и разпределение на суровината в газова фаза в процеса на растеж на 8-инчови SIC кристали и ускорява растежа на големи SIC кристали и автономната и контролируема технология за обработка.Значително повишава основната конкурентоспособност на компанията в производството на SiC монокристални субстрати.В същото време компанията активно насърчава натрупването на технология и процес на експериментална линия за подготовка на субстрат от силициев карбид с големи размери, укрепва техническия обмен и промишленото сътрудничество в областите нагоре и надолу по веригата и си сътрудничи с клиентите за постоянно итериране на производителността на продукта и съвместно насърчава темпото на промишлено приложение на материали от силициев карбид.
| 8-инчов N-тип SiC DSP спецификации | |||||
| Номер | Вещ | Мерна единица | производство | Проучване | манекен |
| 1. Параметри | |||||
| 1.1 | политип | -- | 4H | 4H | 4H |
| 1.2 | повърхностна ориентация | ° | <11-20>4±0,5 | <11-20>4±0,5 | <11-20>4±0,5 |
| 2. Електрически параметър | |||||
| 2.1 | добавка | -- | n-тип азот | n-тип азот | n-тип азот |
| 2.2 | съпротивление | ом · cm | 0,015~0,025 | 0,01~0,03 | NA |
| 3. Механичен параметър | |||||
| 3.1 | диаметър | mm | 200±0,2 | 200±0,2 | 200±0,2 |
| 3.2 | дебелина | μm | 500±25 | 500±25 | 500±25 |
| 3.3 | Ориентация на прореза | ° | [1- 100]±5 | [1- 100]±5 | [1- 100]±5 |
| 3.4 | Дълбочина на прореза | mm | 1~1,5 | 1~1,5 | 1~1,5 |
| 3.5 | LTV | μm | ≤5 (10 мм * 10 мм) | ≤5 (10 мм * 10 мм) | ≤10 (10 мм * 10 мм) |
| 3.6 | TTV | μm | ≤10 | ≤10 | ≤15 |
| 3.7 | Лък | μm | -25~25 | -45~45 | -65~65 |
| 3.8 | Деформация | μm | ≤30 | ≤50 | ≤70 |
| 3.9 | AFM | nm | Ra≤0,2 | Ra≤0,2 | Ra≤0,2 |
| 4. Структура | |||||
| 4.1 | плътност на микротръбата | ea/cm2 | ≤2 | ≤10 | ≤50 |
| 4.2 | съдържание на метал | атоми/cm2 | ≤1E11 | ≤1E11 | NA |
| 4.3 | TSD | ea/cm2 | ≤500 | ≤1000 | NA |
| 4.4 | BPD | ea/cm2 | ≤2000 | ≤5000 | NA |
| 4.5 | ТЕД | ea/cm2 | ≤7000 | ≤10000 | NA |
| 5. Положително качество | |||||
| 5.1 | отпред | -- | Si | Si | Si |
| 5.2 | повърхностно покритие | -- | Si-face CMP | Si-face CMP | Si-face CMP |
| 5.3 | частица | ea/вафла | ≤100 (размер≥0.3μm) | NA | NA |
| 5.4 | драскотина | ea/вафла | ≤5, обща дължина≤200 мм | NA | NA |
| 5.5 | Ръб, край чипове/вдлъбнатини/пукнатини/петна/замърсяване | -- | Нито един | Нито един | NA |
| 5.6 | Политипни области | -- | Нито един | Площ ≤10% | Площ ≤30% |
| 5.7 | предна маркировка | -- | Нито един | Нито един | Нито един |
| 6. Качество на гърба | |||||
| 6.1 | обратно покритие | -- | C-лице MP | C-лице MP | C-лице MP |
| 6.2 | драскотина | mm | NA | NA | NA |
| 6.3 | Гръб дефекти ръб чипове/вдлъбнатини | -- | Нито един | Нито един | NA |
| 6.4 | Грапавост на гърба | nm | Ra≤5 | Ra≤5 | Ra≤5 |
| 6.5 | Маркировка на гърба | -- | прорез | прорез | прорез |
| 7. Ръб | |||||
| 7.1 | ръб, край | -- | фаска | фаска | фаска |
| 8. Опаковка | |||||
| 8.1 | опаковка | -- | Epi-ready с вакуум опаковка | Epi-ready с вакуум опаковка | Epi-ready с вакуум опаковка |
| 8.2 | опаковка | -- | Мултивафла касетна опаковка | Мултивафла касетна опаковка | Мултивафла касетна опаковка |
Време на публикуване: 18 април 2023 г